Luthfi Aprianto, 089411213
(1999)
PEMBENTUKAN LAPISAN TIPIS TITANIUM KARBIDA PADA PERMUKAAN BESI DENGAN TEKNIK SPUTTERING.
Skripsi thesis, Universitas Airlangga.
Abstract
Aplikasi teknolob>1 Iapisan tipis telah menjangkau hampir semua bidang dan semakin menarik untuk diteliti. Aplikasi teknologi lapisan tipis di bidang mekapik bertujuan untuk meningkatkan kualitas sifat mekanik suatu bahan seperti kekerasan ( hardness ), ketahanan terhadap keausan .
Telah dibuat lapisan tipis titanium karbida pada pennukaan besi dengan teknik sputtering dengan gas pen-sputter argon. Pada pembentukan lapisan tipis titanium karbida dilakukan dengan memvariasi waktu dan daya. Lapisan yang dihasilkan berwama kuning keemasan bercampur sedikit merah dan biru, hingga biro kehitam-hitaman tergantung besamya daya dan lamanya waktu pendeposisian.
Dari hasil uji kekerasan menunjukkan peningkatan angka kekerasan hingga 125,21 % yang teljadi pada substrat besi yang dideposisi selama 15 menit dan daya yang diberikan sebesar 140 watt Karak1erisasi dengan meng!:,'1lnakan XRay Diffraction menunjukkan babwa lapisan tipis titanium karbida mempunyai struktur kristal berbentuk face centered cubic ( fcc ) dengan arab bidang kristal <111>, <002>, <022> .....
Actions (login required)
 |
View Item |
