BUDI NUGROHO, 089411196
(2000)
PEMBUATAN LAPISAN TIPIS PIEZOELEKTRIK (ZnO)
DENGAN TEKNIK SPUTTERING DAN
KARAKTERISASI SIFAT FISIKNYA.
Skripsi thesis, Universitas Airlangga.
Abstract
Telah dilakukan penelitian mengenai karakterisasi lapisan tlPIS piezoelektrik (ZnO) yang dibuat dengan metode sputtering tegangan tinggi DC, dengan berbagai variasi kondisi sputtering. Kondisi sputtering yang bervariasi, diharapkan dapat digunakan untuk mengetahui bagaimana variasi karakter fisis dari lapisan tipis yang terbentuk.
Karakterisasi yang dilakukan meliputi karakterisasi resistivitas, faktor kopling elektromekanik dan koefisien efek hall dikaitkan dengan variasi suhu substrat dan waktu sputtering. HasH akhir dari karakterisasi ketiga besaran fisis memerlihatkan bahwa karakter terbaik lapisan tipis untuk aplikasi bidang optoelektronik dan piezooptik adalah lapisan tipis dengan kondisi sputtering : suhu substrat 300°C, ' waktu deposisi 1 jam, tekanan taburig 7.1O"2torr dan jarak elektrode 2 e~ Sedangkan untuk karakter koefisien efek hall tertinggi didapat pada kondisi sputtering: suhu substrat 160°C, waktu dep0 sisi 1 jam, tekanan tabung 7.1 O"2torr dan jarak elektrode 2 em.
Actions (login required)
 |
View Item |
